“谱・度・时尚”以时装跨领域协作 交织出香港“设计光谱”
by《谱・度・时尚》于2023年5月5日至7月19日期间免费开放予公众参观。展览聚焦逾40个设计项目,在时尚的氛围中让创意、美学、历史与文化交叠成一道独特的风景。
《谱・度・时尚》于2023年5月5日至7月19日期间免费开放予公众参观。展览聚焦逾40个设计项目,在时尚的氛围中让创意、美学、历史与文化交叠成一道独特的风景。
设计定位基于镛正堂品牌的理念铺陈开来,不止于产品展示,更在于加深品牌印象与文化印记,品牌形象的综合展示成为设计的核心目标。
过去一年,为配合社会新常态,适应力和创新元素变得特别重要,亦为许多设计师造就发挥想像力的机会,设计出不同贴心的解决方案。